Nanoskala
Kalibrering på højeste plan
Kalibrering ned i nanometerskala kræver helt specielt udstyr. DFM er verdensførende inden for blandt andet kalibrering af stephøjde og gitterperioder og alle målinger er sporbare til en primær normal for længde.
Karakterisering af silicium liniegitre
DFM kan tilbyde karakterisering af silicium liniegitre, udtrykt ved liniebredde (CD), højde samt vinkel af sidevæg. DFM mestrer førende skatterometri-teknologi til opmåling af de essentielle parametre for silicium liniegitre.
Teknikken kombinerer skatterometri med avanceret databehandling for at opnå lave og ganske attraktive niveauer af usikkerhed. Teknikken har ikke de samme dimensionelle begrænsninger som mikroskopi-teknologier som f.eks. AFM eller SEM.
Akkrediteret kalibrering i området:
Periode: 200 – 2000 nm
Højde: 100 – 600 nm
Duty cycles: 0,2 og 0,8
Datablad
Sidevægsvinkel: 0 – 45 grader
Ønskes kalibrering udenfor disse områder så kontakt os for mere information.
Akkrediterede kalibreringer udføres i henhold til DANAK Akkreditering Reg. Nr. 255 samt vores internt ISO 9001 certificerede kvalitetssystem.
Optisk karakterisering af lagtykkelse og brydningsindeks for multilag tyndfilm
DFM kan tilbyde ellipsometrisk karakterisering af lagtykkelse og brydningsindeks for multilag tyndfilm emner.
Kalibrering i området:
Lagtykkelse 2 nm – 10 µm
Ønskes kalibrering udenfor disse områder så kontakt os for mere information.
2D gitter periode kalibrering
DFM kan tilbyde kalibrering af 2D gitter perioder ved brug af Atomic Force Microscopy (AFM) og konfokal mikroskopi.
Akkrediteret kalibrering i området:
Størrelse: 1 µm – 50 µm
Kalibrering uden for akkreditering i området:
Størrelse: 50 µm – 200 µm
Ønskes kalibrering udenfor disse områder så kontakt os for mere information.
Datablad
Akkrediterede kalibreringer udføres i henhold til DANAK Akkreditering Reg. Nr. 255 samt vores internt ISO 9001 certificerede kvalitetssystem.
Kalibrering af stephøjde
DFM kan tilbyde kalibrering af stephøjde foretaget ved brug af Atomic Force Microscopy (AFM), konfokal mikroskopi og interferens mikroskopi.
Akkrediteret kalibrering i området:
Højde: 30 nm – 175 µm
Kalibrering uden for akkreditering i området:
Højde: 2 nm – 5 mm
Ønskes kalibrering udenfor disse områder så kontakt os for mere information.
Akkrediterede kalibreringer udføres i henhold til DANAK Akkreditering Reg. Nr. 255 samt vores internt ISO 9001 certificerede kvalitetssystem.
Datablad
Udmåling af mikroadhæsion
DFM kan tilbyde udmåling af adhæsion for overflader og partikler på mikro- og nanoskala ved hjælp af Atomic Force Microscopy (AFM). Vores metode har den fordel, at den er billeddannende med en høj opløsning. Vi kan anvende både spidse prober, for at opnå den højest mulige opløsning, og sfæriske prober, for at opnå den laveste måleusikkerhed for adhæsionsmålingen.
Målingerne kan gennemføres over et bredt temperatur- og fugtområde, både i luft og i væske.
Udmåling i området:
Adhæsion: 50 pN – 100 µN
Temperaturområde (luft): 4 – 180 °C
Tempraturområde(væske): 22 – 60 °C
Datablad
Fugt område: 11% til 85% rH
Ønskes kalibrering udenfor disse områder så kontakt os for mere information.
Udmåling af mikrokrystaller
DFM kan tilbyde karakterisering af den nano- og mikro-skala strukturelle stabilitet af mikrokrystallers overflader ved forskellig temperatur og fugtighed.
Udmåling i området:
Størrelse: op til 1 mm
Ønskes kalibrering udenfor disse områder så kontakt os for mere information.
Udmåling af 3D printet overflader
DFM kan tilbyde måling af topografi og ruhed på 3D printet overflader med konfokal mikroskopi og interferens mikroskopi.
DFM kan foretage flere forskellige prøvninger af 3D printede overflade som for eksempel:
- Ruhed
- Synlig porrestørrelse
- Lagstruktur
- Tykkelse
Ønskes kalibrering udenfor disse områder så kontakt os for mere information.
Profiludmåling af optiske gitre
DFM kan tilbyde profil udmåling af optiske gitre. Ud over periode og stephhøjde kan fyldningsgraden/bredden af linjerne udmåles samt sidevæggenes vinkler og ruhed.
Denne nøjagtige udmåling af et optiske gitters profil kan bruges til at optimere den optiske funktion og til kvalitetskontrol af det færdige gitter.
Udmåling i området:
Periode: 200 nm – 200 µm
Højde: Afhænger af perioden
Duty cycle: Afhænger af perioden
Ønskes kalibrering udenfor disse områder så kontakt os for mere information.
