“Når vi har metrologi opgaver, som vi ikke selv kan klare internt, så har DFM altid kunnet hjælpe os. DFM har den ekspertise, det udstyr og velviljen til at videndele, som kan føre mange danske virksomheder, som NIL Technology, ud som en betydende spiller på det internationale marked for nano teknologi”. Brian Bilenberg, CTO and Founder, NIL Technology

DFM mestrer førende skatterometri-teknologi til opmåling af de essentielle parametre for silicium liniegitre. DFM tilbyder derfor nu karakterisering af silicium liniegitre, udtrykt ved liniebredde (CD), højde samt vinkel af sidevæg.

Teknikken kombinerer skatterometri med avanceret databehandling for at opnå de lave og ganske attraktive niveauer af usikkerhed. Teknikken har ikke de samme dimensionelle begrænsninger som mikroskopi-teknologier som f.eks. AFM eller SEM. Ydelsen er sporbar til primære vinkel- og bølgelængdenormaler.

Se denne tabel hvor vi viser et eksempel på en måling af 6 parametre, samt deres usikkerheder, som vist i figuren. Den opnåede usikkerhed vil afhænge af det specifikke emne og materiale. Kontakt os for mere information, eller for et tilbud.

Kalibrering af stephøjde kan foretages ved hjælp af atomic force microscopi , hvor der bliver benyttet et atomic force mikroskop (AFM).

Kalibreringen er sporbar til PTB og er DANAK akkrediteret (akkreditering nr. 255).

Kalibrering af 2D gitter perioder kan foretages med et scanning probe mikroskop (SPM).

Selve kalibreringen er sporbar til NPL og er DANAK akkrediteret (akkreditering nr. 255).

Ellipsometrisk karakterisering af lagtykkelse og brydningsindeks for multilag tyndfilm emner.

Usikkerhederne er mindre end 0,5% for begge parametre.

Måling af Youngs modul (elasticitetsmodulet) og hårdhedsmåling på de yderste nanometer af en overflade foretages med AFM, Atomic Force Microscope.

Der kan måles på meget små partikler, som f.eks. pulvere eller tynde belægninger, og hårdheden af de yderste 1-100 nm og Youngs modul kan bestemmes.

DFM udmåler adhæsion for overflader og partikler på mikro- og nanoskala ved hjælp af Atomic Force Microscopy (AFM). Vores metode har den fordel, at den er billeddannende med en høj opløsning. Vi kan anvende både spidse prober, for at opnå den højest mulige opløsning, og sfæriske prober, for at opnå den laveste måleusikkerhed for adhæsionsmålingen.

Målingerne kan gennemføres over et bredt temperatur- og fugtområde, og både i luft og i væske. Læs mere i produktarket her.

DFM kan karakterisere den strukturelle stabilitet af mikrokrystallers overflader ved forskellig temperatur og fugtighed.

Læs mere i produktarket her.

Udmåling af overfladeruhed over længder op til 500 µm og amplituder mindre end 10 µm. Ruhedens størrelse kan måles helt ned til en atomar skala (< 1 nm).

En udmåling kan bruges ved kvalitetskontrol og specifikation af mikromekaniske og mikrooptiske komponeneter så som lab on a chip. Endvidere fint polerede overflader til f.eks. støbeforme brugt til produktion af krævende komponenter, der anvendes til medicinsk diagnostik, farmaci mm.

Kalibrering af partikel diameter med statisk lysspredning. Kan bruges til kalibrering af referencepartikler til Mastersizer, partikelmålere til renrum, miljøovervågning mm.

Kalibreringen er sporbar til lysets bølgelængde og meterdefinitionen.

Ud over periode og stephhøjde kan fyldningsgraden/bredden af linjerne udmåles samt sidevæggenes vinkler og ruhed.

Denne nøjagtig udmåling af et optiske gitters profil kan bruges til at optimere den optiske funktion og kvalitetskontrol af det færdige gitter.